图说：参展作品 泉源/采访工具提供（下同）　　 今天下午，两年一度的第五届上海·亚洲平面设计双年展在上海图书馆开幕。由上海应用技术大学在2011年主办第一届上海·亚洲平面设计双年展以来，该项运动的开展迄今已是第十个年头，现在已经成为展示亚洲设计的最新创作成就及各国各地域平面设计界和设计教育界的国际交流平台，在全国及亚洲具有极大的影响力。

　　 本届双年展仍由上海应用技术大学主办，作为海内最早建设专门造就艺术设计人才的教育基地之一，该校“设计学”入选上海市IV类岑岭学科，结业生遍布全国各地，许多学生已成为著名的艺术家、设计家和设计教育家。2010年上海世博会、中国国际艺术节、北京亚运会、全运会等重大项目的会徽、标志、招贴和祥瑞物等均为上海应用技术大学历届结业学生所设计。近年来，上海应用技术大学努力对接上海“五大中心”“四大品牌”建设，增强艺术设计与文化创意领域建设，以文化创意引领设计，并向相关行业领域延伸，围绕行业生长的全工业链，着力打造支撑引领工业生长的学科专业支撑链。

　　 上海应用技术大学校长柯勤飞教授先容，2019第五届上海·亚洲平面设计双年展的主题为“播”，期待作为中国现代设计起源地的上海不停迎来设计艺术的新生花朵。“我们更希望，通过高水平的视觉图形语言流传、碰撞和融会的学术专业平台，除了为世界各国各地域的视觉转达设计界和设计教育界的精英们提供前沿专业交流平台，向人们展示21世纪亚洲平面设计的最新成就，更能为未来的设计师和设计教育家们播下学习、传承和借鉴的种子。

”　　 据相识，组委会共收到来自海内外近六千份的设计作品投稿，除来自日、美、英、法、德等传统“设计强国”之外，波兰、塞尔维亚、土耳其、墨西哥、乌克兰、罗马尼亚、泰国和乌兹别克斯坦等国家的设计者也踊跃来稿，收稿数量创历史新高。　　 本届双年展总策展人为上海应用技术大学艺术与设计学院院长林迅教授、国家级教学结果奖获得者吴飞飞教授，评审团成员由中国台湾著名设计师林磐聳、日本著名设计师中村至男（Nakamura Norio）、英国索伦特大学艺术设计&时尚学院院长Peter Lloyd、日本IDEA杂志主编小圆西等担纲，经初评和终评两次评审，最终评选300余幅优秀设计作品到场展出，24件（系列）作品获得“评委最喜爱奖”。

　　 据悉，本届双年展12月16日至12月22日在上海展出，2020年1月11日至2月16日在中国台湾展出。　　 新民晚报记者 张炯强。

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